Ang proseso espesyal nga gas nga gigamit sa TFT-LCD manufacturing proseso CVD deposition proseso: silane (S1H4), ammonia (NH3), phosphorne (pH3), katawa (N2O), NF3, ug uban pa, ug dugang pa sa proseso sa proseso Hataas kaputli hydrogen ug taas nga kaputli nitroheno ug uban pang dagkong mga gas.Ang argon gas gigamit sa proseso sa sputtering, ug ang sputtering film gas mao ang nag-unang materyal sa sputtering.Una, ang pelikula nga nagporma sa gas dili mahimong kemikal nga reaksyon sa target, ug ang labing angay nga gas usa ka inert gas.Ang usa ka dako nga kantidad sa espesyal nga gas magamit usab sa proseso sa pag-etching, ug ang elektronik nga espesyal nga gas kasagaran masunog ug mobuto, ug ang labi ka makahilo nga gas, mao nga ang mga kinahanglanon alang sa agianan sa gas taas.Ang Wfly Technology nag-espesyalisar sa disenyo ug pag-instalar sa mga ultra high purity nga sistema sa transportasyon.
Ang mga espesyal nga gas kasagarang gigamit sa industriya sa LCD sa pagporma sa pelikula ug mga proseso sa pagpauga.Ang liquid crystal display adunay usa ka halapad nga matang sa klasipikasyon, diin ang TFT-LCD paspas, ang kalidad sa imaging taas, ug ang gasto anam-anam nga pagkunhod, ug ang labing kaylap nga gigamit nga teknolohiya sa LCD gigamit karon.Ang proseso sa paghimo sa TFT-LCD panel mahimong bahinon sa tulo ka dagkong hugna: ang front array, medium-oriented boxing process (CELL), ug post-stage module assembly process.Ang elektronik nga espesyal nga gas nag-una nga gigamit sa pagporma sa pelikula ug pagpa-uga nga yugto sa miaging proseso sa han-ay, ug usa ka SiNX non-metal film ug usa ka ganghaan, tinubdan, habwa, ug ITO ang gideposito, sa tinagsa, ug usa ka metal nga pelikula sama sa usa ka ganghaan, tinubdan, drainandITO.
Nitrogen / Oxygen / Argon Stainless Steel 316 Semi-Automatic Changeover Gas Conrol Panel
Oras sa pag-post: Ene-13-2022